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Un nouveau procédé de nanolithographie par auto-assemblage
Dans ce travail, nous proposons une approche originale pour créer des nanostructures sur une surface avec un processus séquentiel qui est inspiré par les techniques de lithographie traditionnelle [...]
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Advanced Materials, 24, 9 (2012)1252-1254 |
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Revue sur le silicène - Un nouveau candidat pour l'électronique
De très nombreux calculs théoriques, en liaisons fortes comme ab initio, ont montré que le silicène avait une stabilité intrinsèque (soit plat, soit faiblement corrugué) et présentait des propriétés électroniques quasi identiques à celles du graphène [...]
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Surface Science Reports 67 (2012) 1–18
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IM2NP - UMR CNRS 7334 & Universités Aix-Marseille et Sud Toulon Var
Directeur : Rachid Bouchakour | adresse administrative : Faculté des Sciences et Techniques Avenue Escadrille Normandie Niemen - Case 142 - 13397 Marseille Cedex 20 (France)
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